首先小编还是为大家简单普及一下我们将要讲到的氮化硅结合碳化硅材料吧，虽然有些朋友对这个氮化硅结碳化硅比较熟悉了，但还是有简单普及一下的必要的，氮化硅结合碳化硅材料是以SiC和Si为主要组分，并加入添加剂制成试样，在氮化炉中输入纯度为99.99%的N2进行氮化烧结，在合适的烧成制度下试样氮化烧结成为氮化硅结合碳化硅材料。最新的研究表明经过对试样的显微结构分析和反应热力学分析，该材料中的Si3N4是以纤维状和柱状两种形态存在，认为Si的氮化是由于N2达不到100%的纯净，其中有少量O2存在，装窑过程是在日常环境下进行，然后再抽真空并注入N2置换，炉内呈微正压状态。由于窑炉难以做到完全的封闭，所以在窑炉升温过程中Si首先被氧化成为SiO，降低了体系中的氧分压，当氧分压足够低时，Si与N2直接形成柱状Si3N4，气态SiO亦可与N2反应生成Si3N4，这是一个气-气反应，故生成的Si3N4为纤维状。氮化反应前SiO主要分布于材料孔隙和表面，因此生成的Si3N4分布不均匀，导致了氮化硅结合碳化硅材料制品从表面到内部的结构不均匀。