氮化硅坩埚中的氮化硅可做坩埚内壁涂层，今天讲一下氮化硅烧结及悬浊液对脱模的影响在铸锭脱模后多晶硅铸锭质量为21g。铸锭的反应层厚度较均匀，说明熔炼过程中氮化硅涂层各处反应程度较为一致，涂层中原有的微裂纹和缺陷较少，容易脱模．因而可以认为氮化硅熔体与坩埚内表面接触反应的可能性最小。铸锭脱模后涂层无明显裂纹或缺损，清洗后铸锭表面没有宏观线状或块状粘连，仅有点状的涂层粉体团聚，该团聚体直径约为0.5mm，涂层在装料过程中出现少量颗粒脱落现象，脱模后涂层有宏观裂纹和块状粘连，清洗后铸锭表面有片状粉体团聚区．为圆斑状反应粘连，直径约为2mm，其粘连面积比之前的大。PVP通常在高温下会分解成气态产物逸出，在空气条件下会彻底分解成气体。根据PVP的热重可知600℃空气环境下烧结时与210℃相比能够将氮化硅坩埚中氮化硅的PVP完全去除。因此不会因为熔炼时外界因素影响脱膜效果、开裂及粘连面积对脱模的干扰。